德國MLase準分子激光器MLI 500 ARF工作環境

MLase是紫外光醫療和工業產品供應商。自2007成立以來，MLase一直致力于開發和生產創新型高質量激光和光系統，這是高度專業化的專家團隊多年經驗的結晶。MLase AG 為客戶提供優質的產品，同時考慮到新的技術。MLase AG的質量管理符合ISO 13485:2016標準。

"ARF" 在激光技術中通常是指氬氟化物激光器，屬于準分子激光器的一種。ArF 激光器使用氬氟化物（ArF）氣體作為激光介質，通常在紫外光區域產生激光。

ArF 激光器的工作波長通常在193納米附近，這個波長范圍對于許多應用非常重要。例如，在半導體制造領域，ArF 激光器被廣泛應用于光刻技術，用于將圖形圖案投影到半導體芯片上，以便進行微影和制造。

設計 ArF 準分子激光器需要考慮到氬氟化物的化學特性以及紫外光的高能量特性。工作環境對于ArF激光器同樣也具有重要意義，通常需要保持在高度潔凈、低振動、低溫度變化和低濕度的條件下。

ArF 準分子激光器通常被用于需要高能量、高分辨率和微米級別的精確度的應用領域，比如半導體制造、激光微加工、科學研究等。

Mlase MLI 500 ARF準分子激光器

參數：ArF

波長（納米）：193

最大。重復率 (Hz)：500

穩定的脈沖能量(mJ)：6

穩定的脈沖功率(W)：3,0

能量穩定性 (sigma, %)：2

光束尺寸 (FWHM, V x H mm)：6x3

光束發散（FWHM，V x H mrad）：2x1

脈沖持續時間（FWHM）（ns）：5-10

型號示例：

Mlase準分子激光器MLI 500 ARF

Mlase準分子激光器MLI 500 KRF

Mlase準分子激光器MLI 200 KRF

Mlase準分子激光器MLI 1000 KRF

Mlase準分子激光器MLI 200 ARF

Mlase準分子激光器MLI 1000 ARF

德國MLase準分子激光器MLI 500 ARF工作環境